apl. Prof. Dr.-Ing. Dipl.-Phys. Kirsten Weide-Zaage

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Adresse
Appelstr. 4
30167 Hannover
Gebäude
Raum
220
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  • Publikationsliste

    Zeige Ergebnisse 101 - 107 von 107

    1999


    Finite element analysis of thermal-mechanical stress induced failure in interconnects. / Yu, X.; Weide, K.
    in: Materials Research Society Symposium - Proceedings, Jahrgang 539, 1999, S. 269-274.

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftKonferenzaufsatz in FachzeitschriftForschungPeer-Review


    1998


    Influence of the material properties on the thermal behaviour of a package. / Weide, Kirsten; Keck, Christian; Yu, Xiaoying.
    Microelectronic manufacturing, yield, reliability, and failure analysis IV: 23 - 24 September 1998, Santa Clara, California. Bellingham: SPIE, 1998. S. 112-121 (Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering; Band 3510).

    Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Sammelwerk/KonferenzbandAufsatz in KonferenzbandForschungPeer-Review


    1997


    A study of the thermal - electrical- and mechanical influence on degradation in an aluminum - pad structure. / Yu, X.; Weide, K.
    in: Microelectronics reliability, Jahrgang 37, Nr. 10-11, 1997, S. 1545-1548.

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungPeer-Review

    Investigations of mechanical stress and electromigration in an aluminum meander structure. / Yu, Xiaoying; Weide, Kirsten.
    Microelectronic Manufacturing Yield, Reliability, and Failure Analysis III: 1 - 2 October 1997, Austin, Texas. Bellingham: SPIE, 1997. S. 160-166 (Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering; Band 3216).

    Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Sammelwerk/KonferenzbandAufsatz in KonferenzbandForschungPeer-Review


    1996


    Finite element investigations of mechanical stress in metallization structures. / Weide, K.; Yu, X.; Menhorn, F.
    in: Microelectronics reliability, Jahrgang 36, Nr. 11-12 SPEC. ISS., 1996, S. 1703-1706.

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungPeer-Review


    1995


    Model calculations on a bipolar transistor emitter interconnection with different contact shapes. / Weide, K.; Ullmann, J.; Hasse, W.
    in: Applied surface science, Jahrgang 91, Nr. 1-4, 02.10.1995, S. 234-238.

    Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungPeer-Review


    1992


    3-dimensional simulations of temperature and current density distribution in a via structure. / Weide, K.; Hasse, W.
    Annual Proceedings - Reliability Physics (Symposium). Publ by IEEE, 1992. S. 361-365 (Annual Proceedings - Reliability Physics (Symposium)).

    Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Sammelwerk/KonferenzbandAufsatz in KonferenzbandForschungPeer-Review


  • Forschungsprojekte

    Systementwurf